MEIX HSM-1012VNL Semiconductor Vacuum Oven
MEIX HSM-1012VNL Semiconductor Vacuum Oven

MEIX HSM-1012VNL 半导体真空回流焊

MEIX HSM-1012VNL 半导体真空回流焊此设备以进口平台,精心打造,具有自主知识产权,打破国际封锁和垄断的半导体焊真空焊接设备,产品针对SOP、SOT、DIP、QFN、QFP、BGA、IGBT、TO、MINI LED 等真空芯片封装焊接。
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Products Description

MEIX HSM-1012VNL 半导体真空回流焊此设备以进口平台,精心打造,具有自主知识产权,打破国际封锁和垄断的半导体焊真空焊接设备,产品针对SOP、SOT、DIP、QFN、QFP、BGA、IGBT、TO、MINI LED 等真空芯片封装焊接。

此设备采用工控嵌入式控制系统,系统采用双CPU运算,可以脱离电脑(电脑死机)独立运行,不仅稳定可靠而且温度控制更加精确。

针对客户产品提供可更换加热模块,有效解决温差导致炸锡现象。

独家专利的Flux锡膏自动回收系统,减少设备维护和清理。

设备支持关键焊接参数的配方功能、支持MES远程数据读取。

智能氮气监测和控制系统,不但节约保护气体,而且氧气含量更低。

分步抽真空设计,最多可分5步抽真空。

专利密封圈水冷结构,不仅寿命更长,使用成本更低,而且减少了密封不良造成的昂贵的产品损坏。

最大真空度可以达到 0.1KPa ,Void Single<0.5%,Total<1%。

最快循环时间 25s / per cycle、真空回流焊行业效率最高。

热机时间约30min。

完美匹配ASM及国内DB设备。


                        型号HSM-1012VNL
尺寸(mm)

L2800*D1450*H1818

重量

约:1500kg
顶部加热区数量

3

顶部加热方式

热辐射
底部加热区数量

10

底部加热方式

接触式
冷却区数量

2

真空区数量

1
加热板长度

340mm

加热板宽度

130mm
产品厚度

0.2-5mm

生产效率

≤120PCS/H
最大限度温度

420℃

最小氧气含量

50ppm
加热板温度差异

≤±3℃

电源

3P 380V 50/60Hz
总功率

35千瓦

功率消耗

≤8千瓦
压缩空气压力

≥5公斤/平方厘米

保护气压

2.5公斤/平方厘米
水流量

10-25升/分钟

氮气消耗量

约:150-200L/分钟
空洞率

约:1%-2%


HSM-1013VNL-1.jpg

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