MEIX HSM-812 VN半導体真空オーブン、この装置は輸入プラットフォームを使用し、専用に構築され、独立した知的財産権を持ち、半導体真空はんだ付け装置の国際的な封鎖と独占を破り、SOP、SOT、DIP、QFN、QFP、BGA、IGBT、TO、MINI LEDおよびその他の真空チップパッケージはんだ付けに特化しています。

This装置は産業用組み込み制御システムを採用し、デュアルCPU計算を備え、コンピュータから独立して実行できます(コンピュータクラッシュ)、安定して信頼性が高く、温度制御がより正確であり、交換可能な加熱モジュールを提供し、温度差による錫の揚げ物現象を効果的に解決します。

Exclusive特許取得済みのフラックス&ペースト収集システムは、装置のメンテナンスとクリーニングを削減します。

The機は、主要なはんだ付けパラメータのレシピ機能とMESリモートデータ読み取りをサポートしています。

Intelligent窒素モニタリングおよび制御システムは、ガスを節約するだけでなく、酸素含有量も低くなシールリングの特許取得済みの水冷構造は、寿命が長く、使用コストが低くなるだけでなく、シール不良による製品の損傷も軽減します。pressure

2最大真空は0に達することができます。1 KPa、ボイドレート:シングルボイドレートconsumption

APPROX最速サイクルタイムは25秒、最高効率、加熱時間は約30分です。1%-2%

はASMおよび国内DB機器に適合します。

Models

HSM-812VNDimension(mm)L2200*D1450*H1818

Weight

APPROX: 1400 KG上部加熱zones3

Top加熱method

Thermal放射線下部加熱zones8

Bottom加熱method

ContactingNumber真空zones

1Heatingパネルのzone2

Numberパネルwidth

120mmProduct厚さ0.2-5mm

Productionefficiency

120PCS/HMax。温度420℃1172 7 7 9 84001 Min。O 2content

50ppmHeatingパネル温度差3℃1172 7 7 9 84001supply

3P380 V 50/60 Hz総power28kw

Powerconsumption

5kwCompressed空気圧力5 kg/cm2

Protection空気

The.5 kg/cm2水流量8-20 L

Perfect1172 7 9 84001 N 2

The:150-200 L/minボイドレートAppx。: