MEIX HSM-1012VN Semiconductor Vacuum Oven
MEIX HSM-1012VN Semiconductor Vacuum Oven

MEIX HSM-1012 VN半導体真空オーブン

MEIX HSM-1012 VN半導体真空オーブンは、輸入されたプラットフォームを使用して専用に構築され、独立した知的財産権を持ち、半導体の国際的な封鎖と独占を破ります。
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Products Description

MEIX HSM-1012 VN半導体真空オーブン、この装置は輸入プラットフォームを使用し、専用に構築され、独立した知的財産権を持ち、半導体真空はんだ付け装置の国際的な封鎖と独占を破り、SOP、SOT、DIP、QFN、QFP、BGA、IGBT、TO、MINI LEDおよびその他の真空チップパッケージはんだ付けに特化しています。


This装置は産業用組み込み制御システムを採用し、デュアルCPU計算を備え、コンピュータから独立して実行できます(コンピュータクラッシュ)、安定して信頼性が高く、温度制御がより正確であり、交換可能な加熱モジュールを提供し、温度差による錫の揚げ物現象を効果的に解決します。


Exclusiveの特許取得済みフラックス&ペースト収集システムは、装置のメンテナンスとクリーニングを削減します。


The機は、主要なはんだ付けパラメータのレシピ機能とMESリモートデータ読み取りをサポートしています。


Intelligent窒素モニタリングおよび制御システムは、ガスを節約するだけでなく、酸素含有量も低くなシールリングの特許取得済みの水冷構造は、寿命が長く、使用コストが低くなるだけでなく、シール不良による製品の損傷も軽減します。pressure

2最大真空は0に達することができます。1 KPa、ボイドレート:シングルボイドレートconsumption

APPROX最速サイクルタイムは25秒、最高効率、加熱時間は約30分です。1%-2%


HSM-1013VNL-1.jpg

はASMおよび国内のDB機器に適合します。


Models

HSM-1012VNDimension(mm)L2200*D1450*H1818

Weight

APPROX: 1400 KG上部加熱zones3

Top加熱method

Thermal放射線下部加熱zones10

Bottom加熱冷却zone2

Number真空zones

1Heatingパネルの厚さ0.2-5mm

Productionefficiency

120PCS/HMax。温度420℃1172 7 7 9 84001 Min。O 2content

50ppmHeatingパネル温度差3℃1172 7 7 9 84001supply

3P380 V 50/60 Hz総power32kw

Powerconsumption

7kwCompressed空気圧力5 kg/cm2

Protection空気


The.5 kg/cm2水流量10-25 L


Perfect1172 7 9 84001 N 2


The:150-200 L/minボイドレートAppx。:

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